其他
ASML研制新一代光刻机,耗资1.5亿美元包含10万个部件
“新一代 EUV 光刻机预计在未来 10 年将继续推动芯片行业的发展,但光刻技术不会变得越来越重要。我们已经开始研制 EUV 的继承者,包括电子束和纳米压印光刻(nanoimprint lithography)。”
https://www.wired.com/story/asml-extreme-ultraviolet-lithography-chips-moores-law/?utm_source=twitter&utm_medium=social&utm_campaign=onsite-share&utm_brand=wired&utm_social-type=earned
https://en.wikipedia.org/wiki/Moore%27s_law